Co/Cu çok katmanlı nanoyapılar üzerine Fe içeriğinin etkisi

















































































60
5. TARTIŞMA
Elektrodepozisyon, manyetik ince filmlerin üretiminde kullanılan mevcut üretim tekniklerinden en basit ve ekonomik olanıdır. Bu çalışmada TÜBİTAK katkıları (proje no: TBAG-1771) ile bölümümüzde kurulmuş olan 3 elektrotlu elektrodepozisyon deneysel sistemi ile CoFe/Cu çok katmanlı nano yapılar, kendi iyonlarını içeren çözeltilerden Ti alttabaka üzerine büyütüldüler. CoFe/Cu katmanlı tabakaların özellikleri, çözeltideki Fe iyonlarının konsantrasyonuna, ferromanyetik tabaka (CoFe) ve manyetik olmayan (Cu) tabaka kalınlıklarının fonksiyonu olarak incelenmiştir.
Kullanılan çözeltilerin elektrokimyasal karakterizasyonlarının belirlenmesi için dönüşümlü voltametri (CV) tekniği kullanıldı. Hazırlanan farklı Fe konsantrasyonuna sahip çözeltiler için potansiyelin fonksiyonu olarak akım değerleri bilgisayar yardımı ile kaydedildi ve bu veriler kullanılarak akım-potansiyel yani CV eğrileri çizildi. Bu CV eğrilerinden Co, CoFe depozisyon potansiyel aralığı -1.3 ile -1.7 V SCE göre arasında, Cu için SCE göre -0.3 ile -0.5 V olabileceği tespit edildi. Bu potansiyel aralıklarında yapılan deneme numunelerinin metalik parlaklıkları göz önünde bulundurularak en uygun depozisyon potansiyelinin Co, CoFe için -1.5 V, Cu için ise -0.3 V olması gerektiği anlaşıldı. Bütün filmler bu potansiyel değerleri kullanılarak hazırlandı. Co/Cu ve CoFe/Cu filmlerinin akım-zaman geçişlerinden bu iki sistemin de benzer bir büyüme sürecine sahip olduğu anlaşıldı. Ayrıca farklı Fe konsantrasyonu içeren çözeltilerden üretilen numunelerin akım-zaman geçişlerinde Fe içeriğinin artışına bağlı olarak akım değerinin yükseldiği gözlendi.
Filmlerin yapısal karakterizasyonları için X-ışını difraksiyonu (XRD) tekniği kullanıldı. Numunelerden 40-1000 aralığında alınan XRD spektrumlarında fcc yapıya ait (111), (200), (220) ve (311) yansıma pikleri görüldü. Bu numunelerin düzlemler arası mesafeleri ve kristal yönelimleri hesaplandı. Bu dört düzlemin açısal konumları ve Miller indisleri kullanılarak numunelerin örgü sabitleri en küçük kareler yöntemiyle hesaplandı ve bu değerlerin 0.358-0.361 nm aralığında olduğu tespit edildi. Hesaplanan



72. SAYFAYA BENZER SAYFALAR

CoFeNi/Cu süperörgülerin özelliklerinin Ni içeriğine bağlı olarak incelenmesi - Sayfa 73
61 5. TARTIŞMA Süperörgüler, farklı iyonlar içeren tek bir çözeltiden bir alttabaka üzerine elektrodepozisyon tekniği ile üretilebilen periyodik çok katmanlı nano yapılardır. Bu çalışmada; elektrodepozisyon tekniği ile üretilen CoFeNi/Cu süperörgüleri, kendi iyonlarını içeren çözeltiler kullanılarak Ti (hcp) alttabaka üzerine büyütüldüler. Bu süperörgülerin özellikleri; çözelti içindeki Ni konsa...

72. SAYFADAKI ANAHTAR KELIMELER

potansiyel
tabaka
sahip
depozisyon
ince
manyetik


72. SAYFA ICERIGI

60
5. TARTIŞMA
Elektrodepozisyon, manyetik ince filmlerin üretiminde kullanılan mevcut üretim tekniklerinden en basit ve ekonomik olanıdır. Bu çalışmada TÜBİTAK katkıları (proje no: TBAG-1771) ile bölümümüzde kurulmuş olan 3 elektrotlu elektrodepozisyon deneysel sistemi ile CoFe/Cu çok katmanlı nano yapılar, kendi iyonlarını içeren çözeltilerden Ti alttabaka üzerine büyütüldüler. CoFe/Cu katmanlı tabakaların özellikleri, çözeltideki Fe iyonlarının konsantrasyonuna, ferromanyetik tabaka (CoFe) ve manyetik olmayan (Cu) tabaka kalınlıklarının fonksiyonu olarak incelenmiştir.
Kullanılan çözeltilerin elektrokimyasal karakterizasyonlarının belirlenmesi için dönüşümlü voltametri (CV) tekniği kullanıldı. Hazırlanan farklı Fe konsantrasyonuna sahip çözeltiler için potansiyelin fonksiyonu olarak akım değerleri bilgisayar yardımı ile kaydedildi ve bu veriler kullanılarak akım-potansiyel yani CV eğrileri çizildi. Bu CV eğrilerinden Co, CoFe depozisyon potansiyel aralığı -1.3 ile -1.7 V SCE göre arasında, Cu için SCE göre -0.3 ile -0.5 V olabileceği tespit edildi. Bu potansiyel aralıklarında yapılan deneme numunelerinin metalik parlaklıkları göz önünde bulundurularak en uygun depozisyon potansiyelinin Co, CoFe için -1.5 V, Cu için ise -0.3 V olması gerektiği anlaşıldı. Bütün filmler bu potansiyel değerleri kullanılarak hazırlandı. Co/Cu ve CoFe/Cu filmlerinin akım-zaman geçişlerinden bu iki sistemin de benzer bir büyüme sürecine sahip olduğu anlaşıldı. Ayrıca farklı Fe konsantrasyonu içeren çözeltilerden üretilen numunelerin akım-zaman geçişlerinde Fe içeriğinin artışına bağlı olarak akım değerinin yükseldiği gözlendi.
Filmlerin yapısal karakterizasyonları için X-ışını difraksiyonu (XRD) tekniği kullanıldı. Numunelerden 40-1000 aralığında alınan XRD spektrumlarında fcc yapıya ait (111), (200), (220) ve (311) yansıma pikleri görüldü. Bu numunelerin düzlemler arası mesafeleri ve kristal yönelimleri hesaplandı. Bu dört düzlemin açısal konumları ve Miller indisleri kullanılarak numunelerin örgü sabitleri en küçük kareler yöntemiyle hesaplandı ve bu değerlerin 0.358-0.361 nm aralığında olduğu tespit edildi. Hesaplanan

İlgili Kaynaklar







single.php